设备分类编码: 129900

仪器设备分类: 通用

主要学科领域: [材料科学]

仪器设备来源: 购置

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仪器所属类别: 工艺试验仪器>>其他>>其他

规格型号: FJL　560

所属科研设施:

主要功能: 可用于开发纳米级的单层/多层功能膜—各种硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜、铁磁膜和磁性薄膜等。镀膜方式有直流直位、斜位和射频直位溅射镀膜，多靶位直流共溅镀膜，以及离子束沉积镀膜。此外，也可进行真空退火。

主要技术指标: 磁控室可以进行直流直靶位溅射、射频直靶位溅射，直流斜靶位溅射和直流三靶位共溅射镀膜；靶位采用永磁水冷结构；样品转盘上有六个样品台，一个可以将镀膜基底最高加热到600℃，其余样品台为水冷结构；镀膜由计算机软件系统控制完成。 离子束室安装Φ3mm kaufman型样品清洗和辅助沉积离子枪和Φ3mm kaufman型溅射离子枪各一台；四工位转靶一支（水冷结构），设计上考虑了从外部引入激光辅助镀膜；样品转盘上有两个样品台，一个水冷结构，一个加热结构（最高加热温度600℃）；镀膜由计算机软件系统控制完成。 进样

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