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化学气相沉积系统  (收藏)

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设备分类编码: 120204

仪器设备分类: 专用

主要学科领域: [材料科学, 电子与通信技术]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 010-64526134

电子邮箱: zhongq@nim.ac.cn

通讯地址: 北京市朝阳区北三环东路18号中国计量科学研究院2号楼314室

邮政编码: 100029

联系人: 钟青

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>化工、制药工艺实验设备>>化学反应工艺实验设备

规格型号: Corial 200D

所属科研设施:

主要功能: 在低温下(低于100℃时),沉积低应力二氧化硅淀积速率和低应力氮化硅薄膜沉积速率。

主要技术指标: 腔室的本底真空可以达到5×10-5τ;真空计压力控制精度好于±0.25%;5路工艺气体到腔室;低于100℃时,低应力二氧化硅淀积速率:>30nm/min;低应力氮化硅薄膜沉积速率≥8nm/min。

安放地址: 石牌坊北路18号,19号楼1010室

服务内容: 用于制备氮化硅和二氧化硅

服务的典型成果: 长期为量子计量用微纳基标准器件的研制提供表征服务

对外开放共享规定: 参照《中国计量科学研究院大型仪器设备共享管理实施细则》

参考收费标准: 参照《中国计量科学研究院大型仪器设备共享管理实施细则》



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