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紫外光刻机  (收藏)

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设备分类编码: 120302

仪器设备分类: 专用

主要学科领域: [物理学, 材料科学, 电子与通信技术]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 010-64526134

电子邮箱: Zhongq@nim.ac.cn

通讯地址: 北京市朝阳区北三环东路18号中国计量科学研究院2号楼314室

邮政编码: 100029

联系人: 钟青

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>电子工艺实验设备>>半导体集成电路工艺实验设备

规格型号: EVG 620

所属科研设施:

主要功能: 用于光刻板的图形转移到涂覆光刻胶的样品表面。

主要技术指标: 对准精度: 正面≤±0.5μm;背面≤±1.0μm; X、Y方向调节范围≥±5 mm ;θ角调节范围≥±3?;光刻分辨率:≤ 1.0μm(光刻胶厚1微米时)。

安放地址: 石牌坊北路18号,19号楼1010室

服务内容: 用于紫外曝光

服务的典型成果: 长期为量子计量用微纳基标准器件的研制提供表征服务

对外开放共享规定: 参照《中国计量科学研究院大型仪器设备共享管理实施细则》

参考收费标准: 参照《中国计量科学研究院大型仪器设备共享管理实施细则》



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