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原子层沉积系统  (收藏)

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设备分类编码: 129900

仪器设备分类: 通用

主要学科领域: [化学, 材料科学]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 010-64524967

电子邮箱: wanghai@nim.ac.cn

通讯地址: 北京市朝阳区北三环东路18号

邮政编码: 100029

联系人: 王海

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>其他>>其他

规格型号: TFS 200-179

所属科研设施:

主要功能: 具有热ALD沉积氧化物、氮化物、贵金属等薄膜材料的功能;具备未来等离子体增强ALD、Loadlock单元扩展功能。

主要技术指标: 反应腔腔壁加热温度应不低于300℃;反应腔能够适应在8英寸及以下尺寸平面基底上沉积薄膜材料且对基底形状没有严格要求,基底加热温度可达500℃。

安放地址: 十三陵镇石牌坊北路18号

服务内容: 薄膜样品制备

服务的典型成果:

对外开放共享规定: 参照《中国计量科学研究院大型仪器设备共享管理实施细则》

参考收费标准: 参照《中国计量科学研究院大型仪器设备共享管理实施细则》



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