设备分类编码: 120302

仪器设备分类: 通用

主要学科领域: [物理学, 材料科学]

仪器设备来源: 购置

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联系人: 李俊杰

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>电子工艺实验设备>>半导体集成电路工艺实验设备

规格型号: Savannah-100

所属科研设施:

主要功能: （1）可以沉积晶体管栅极高K介电层，如Al2O3, HfO2, ZrO2等. （2）沉积的薄膜致密无漏点，可生成密集和针孔状的游离薄膜. （3）前驱体是饱和化学吸附，保证生成大面积均匀性的薄膜. （4）可生成极好的三维保形性化学计量薄膜，作为台阶覆盖和纳米孔材料的涂层. （5）薄膜生长可在低温（室温到400oC）下进行. （6）可以通过控制反应周期数简单精确地控制薄膜的厚度，形成达到原子层厚度精度的薄膜.

主要技术指标: Savannah 100ALD 技术特征及指标 衬底材料大小 ：最大放4’’晶片，也可放不规则晶片 衬底温度 ：25oC ~ 400oC; ±0.2oC 前驱体源 ：2种，可加至5种（可加热） 沉积均匀性 ：< ±1% 沉积速率及特性 ：

安放地址:

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定:

参考收费标准: