设备分类编码: 120499

仪器设备分类: 通用

主要学科领域: [材料科学]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 010-51167949

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联系人: 刘静

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>加工工艺实验设备>>其他

规格型号: 无

所属科研设施:

主要功能: 不间断地实现七种不同元素的反应/非反应磁控溅射镀膜，能够分段设置玻璃运行速度、行程、往复次数， 在表面预处理、工艺控制与镀膜方式上有多种选择，能满足薄膜材料研究所需的单层、多层膜系样品制备和镀膜设备及工艺研究的要求。

主要技术指标: 溅射室极限真空：5E-4torr 基片最大尺寸：300*300mm 基片传动速率：0-3m/min,可分段连续调节 基片加热：最高温度350度 溅射阴极：平面阴极3条，孪生阴极3对，磁场可调阴极1条 溅射电源：中频电源、射频电源、直流电源、直流脉冲电源 其他配置：射频清洗、离子源辅助沉积、SPF监控系统

安放地址:

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定:

参考收费标准: