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离子束溅射组合材料芯片制备系统  (收藏)

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设备分类编码: 129900

仪器设备分类: 通用

主要学科领域: [材料科学]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 010-51167576

电子邮箱:

通讯地址:

邮政编码:

联系人: 汪洪

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>其他>>其他

规格型号:

所属科研设施:

主要功能: 利用随时间移动的模板与镀膜技术形成元素成分连续渐变分布,得到线性比例的前驱体,然后通过再处理得到用于绘制连续相图所需的材料。设备可实现微小区域上连续掩膜;配备48靶位自动旋转原位换靶模块,满足制备金属多层膜结构所需的所有元素;具备衬底加热模块,用于原位扩散和材料退火,使得薄膜在加热衬底上原位生长,大幅度改善材料的结晶性能。

主要技术指标: 主腔室(Main Chamber):包括高真空镀膜腔、加热后处理腔,和靶材、样品存储腔。 - 主泵:Cryogenic冷冻真空泵 - 本底真空度: 10^-9 torr(环境湿度≤55%) - 镀膜气压: 5.0×10^-4 torr Ar - Ion Tech 3cm Kaufman型离子源 - Ion Tech MPS 3000离子源电源(110W) - 离子束最大电流: 40 mA - 配备8靶位自动旋转原位换靶模块的多靶镀膜系统,靶直径: 3 inch

安放地址:

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定:

参考收费标准:



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