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真空多靶位控溅射系统  (收藏)

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设备分类编码: 990000

仪器设备分类: 专用

主要学科领域: [物理学]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 010-58806921

电子邮箱: yswang@bnu.edu.cn

通讯地址:

邮政编码:

联系人: 王引书

仪器所属类别: 其他仪器>>其他>>其他

规格型号: JGP-450A

所属科研设施:

主要功能: 主要用于纳米级的单层及多层功能膜-各种硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜、铁磁膜和磁性薄膜等的研究开发。广泛应用于半导体行业、微电子及新材料领域。

主要技术指标: 溅射室尺寸:Φ450×280;极限真空:6.6×10-5Pa 靶尺寸3×Φ60,样品尺寸:Φ40, 三靶共溅或直溅 样品台室温~500℃;射频电源:1套500W;(沈阳,带转换) 直流电源:2套500W; 镀膜过程采用计算机控制,具有:样品转盘复位功能;确认靶位功能;镀膜时间控制功能;样品转盘回转控制功能;靶级遮挡功能。磁动力传动杆可以从样品库传送样品到样品架;预处理室:反溅射清洗,原位退火400℃

安放地址:

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定:

参考收费标准:



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