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化学气相沉积系统  (收藏)

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设备分类编码: 019900

仪器设备分类: 专用

主要学科领域: [其他]

仪器设备来源: 赠送

联系电话: 010-62788736

电子邮箱: yqgx@mail.tsinghua.edu.cn

通讯地址: 北京市海淀区中关村北大街

邮政编码: 100084

联系人: 张晓丽

仪器所属类别: 分析仪器>>其他>>其他

规格型号: L450P

所属科研设施:

主要功能: 可沉积氧化硅和氮化硅薄膜。

主要技术指标: 衬底温度:小于350度, 极限真空:1.2*10E-4Pa 均匀性: 5% 最大功率: 200W 射频频率:13.56MHZ 工艺压力: 20-200 Pa 气体种类:N2O  NH3  SiH4  N2

安放地址: 北京市北京市海淀区中关村北大街

服务内容: 由李群庆教授带领的具有一流半导体工艺技术的团队,有专业人员负责设备维护和实验操作,外围支撑部门保障实验室环境以及实验过程中所需的水电气。

服务的典型成果: 北京大学物理学院,清华大学电子系,清华大学航院

对外开放共享规定: 正在完善中...

参考收费标准: PECVD(元/小时)——校内(院内):200.0、校内(院外):200.0、校外:200.0;



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