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原子层沉积系统  (收藏)

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设备分类编码: 019900

仪器设备分类: 专用

主要学科领域: [其他]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 010-62788736

电子邮箱: yqgx@mail.tsinghua.edu.cn

通讯地址: 北京市海淀区中关村北大街

邮政编码: 100084

联系人: 王进才

仪器所属类别: 分析仪器>>其他>>其他

规格型号: TFS200-106

所属科研设施:

主要功能: 制备氧化物,如氧化铪、氧化铝、氧化钛、氧化钽等,制备氮化物,如氮化钛、氮化钽等,精确到0.1纳米。

主要技术指标: 原子层淀积,功率4kW,载气:N2;生长精度:0.1nm,反应温度:25~500C,样品尺寸:20-200mm,生长方式:热沉积/等离子体生长;热源2个,温度25~300C;冷源3个。

安放地址: 北京市北京市海淀区中关村北大街

服务内容: 设备管理:张志刚、窦维治工艺开发与服务:沈姗姗设备维护:田振

服务的典型成果: 北京大学电子系物理电子学研究所,香港中文大学,清华大学化学系,清华大学物理系纳米中心,清华大学微电子学研究所

对外开放共享规定: 正在完善中...

参考收费标准: 原子层沉积(元/小时)——校内(院内):0.0、校内(院外):280.0、校外:400.0;



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