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LAB18薄膜沉积系统  (收藏)

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设备分类编码: 019900

仪器设备分类: 专用

主要学科领域: [其他]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 010-62788736

电子邮箱: yqgx@mail.tsinghua.edu.cn

通讯地址: 北京市海淀区中关村北大街

邮政编码: 100084

联系人: 冻逸冰

仪器所属类别: 分析仪器>>其他>>其他

规格型号: KJLC

所属科研设施:

主要功能: 该设备的特点如下:本底真空可达到10E-8Torr量级;基片温度可以控制在室温~550℃;可对基片进行等离子体清洗;可实现6英寸及以下尺寸的硅片的溅射镀膜;溅射镀膜的粘附性好,片内均匀性能够达到5%以下;可对多种材料进行溅射,目前主要有金属、氧化物和氮化物薄膜,包括Pt、Ti、Al、Cr、Hf、Ta、Nb、V、Ni、Co、Pd、Al2O3、HfO2、Ta2O5、Nb2O5、NbO2、V2O5、TiN、W等

主要技术指标: 金属及氧化物材料磁控溅射:包括Pt、Ti、Al、Cr、Hf、Ta、Nb、V、Ni、Co、Pd、Al2O3、HfO2、Ta2O5、Nb2O5、NbO2、V2O5、TiN、W等;本底真空:10E-8Torr

安放地址: 北京市北京市海淀区中关村北大街

服务内容: 吴华强副教授,伍晓明副教授,窦维治支持工程师,韩冰设备工程师,李志东工艺工程师

服务的典型成果: 钱鹤研究员,吴华强研究员,伍晓明研究员,王敬研究员,陈炜研究员等。

对外开放共享规定: 正在完善中...

参考收费标准: 金属溅射(元/小时)——校内(院内):0.0、校内(院外):420.0、校外:600.0;溅射(元/小时)——校内(院内):0.0、校内(院外):420.0、校外:600.0;



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