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化学气相沉积系统  (收藏)

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设备分类编码: 019900

仪器设备分类: 专用

主要学科领域: [其他]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 010-62788736

电子邮箱: yqgx@mail.tsinghua.edu.cn

通讯地址: 北京市海淀区中关村北大街

邮政编码: 100084

联系人: 冻逸冰

仪器所属类别: 分析仪器>>其他>>其他

规格型号: PHANTOMIII

所属科研设施:

主要功能: 此设备在100~400℃下淀积SiOx、SiNx、SiOxNy、ɑ-Si、SiCx 高低应力SiNx薄膜。反应气体主要是元素的氢化物。

主要技术指标: 等离子增强型化学气相淀积;工艺温度100~400℃

安放地址: 北京市北京市海淀区中关村北大街

服务内容: 张忠会  田震  韩冰  窦维治

服务的典型成果: 吴华强 微电子所;许军 微电子所;陈炜 微电子所;钱鹤 微电子所;刘泽文 微电子所;岳瑞峰 微电子所; 王喆垚 微电子所;蔡坚 微电子所;邓宁 微电子所;伍晓明 微电子所; 张志勇 北京大学

对外开放共享规定: 正在完善中...

参考收费标准: PECVD淀积(元/小时)——校内(院内):0.0、校内(院外):350.0、校外:500.0;



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