设备分类编码: 019900

仪器设备分类: 专用

主要学科领域: [其他]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 010-62788736

电子邮箱: yqgx@mail.tsinghua.edu.cn

通讯地址: 北京市海淀区中关村北大街

邮政编码: 100084

联系人: 乔忠林

仪器所属类别: 分析仪器>>其他>>其他

规格型号: DFS-175-3-ICC

所属科研设施:

主要功能: 此设备在700～800℃之间,由二氯氢硅和氨气反应，生成氮化硅薄膜。

主要技术指标: 生长氮化硅薄膜，工艺温度700～800℃

安放地址: 北京市北京市海淀区中关村北大街

服务内容: 张忠会  曹秉军  窦维治

服务的典型成果: 吴华强 微电子所；许军 微电子所；陈炜 微电子所；钱鹤 微电子所；刘泽文 微电子所；岳瑞峰 微电子所； 王喆垚 微电子所；蔡坚 微电子所；邓宁 微电子所；伍晓明 微电子所

对外开放共享规定: 正在完善中...

参考收费标准: LPCVD生长氮化硅(元/小时)——校内(院内):0.0、校内(院外):280.0、校外:400.0;