设备分类编码: 019900

仪器设备分类: 专用

主要学科领域: [其他]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 010-62788736

电子邮箱: yqgx@mail.tsinghua.edu.cn

通讯地址: 北京市海淀区中关村北大街

邮政编码: 100084

联系人: 单一林

仪器所属类别: 分析仪器>>其他>>其他

规格型号: KJLC PVD75

所属科研设施:

主要功能: 该设备具有以下特点：真空度可达到10-8Torr量级；具有基片加热功能，最高可以加热到450℃；可对8英寸及以下硅片进行镀膜；蒸发速率快,均匀性好；所蒸发的金属薄膜易于剥离；同时能够对薄膜的蒸发速率和厚度进行实时监测。目前可蒸发材料包括Al，Sc，Sn，Ge等。

主要技术指标: 真空度可达到10-8Torr量级；具有基片加热功能，最高可以加热到450℃

安放地址: 北京市北京市海淀区中关村北大街

服务内容: 吴华强副研究员，伍晓明副研究员，窦维治支持工程师，韩冰设备工程师，李志东工艺工程师

服务的典型成果: 钱鹤研究员，吴华强副研究员，王敬研究员

对外开放共享规定: 正在完善中...

参考收费标准: 电子束蒸发(元/小时)——校内(院内):0.0、校内(院外):560.0、校外:800.0;