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离子束溅射系统  (收藏)

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设备分类编码: 129900

仪器设备分类: 通用

主要学科领域: [材料科学]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 18689521220

电子邮箱: fwen323@163.com

通讯地址: 海口市美兰区人民大道58号海南大学材料与化工学院

邮政编码: 570228

联系人: 文峰

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>其他>>其他

规格型号: LSJ500A 10-4Pa/30min

所属科研设施:

主要功能: ×用于金属、非金属等器件的高质量镀膜。

主要技术指标: ×1、 溅射离子源(聚焦束考夫曼源) 加速能量0.5k~3KeV 束流0~150mA 气流量:0~10sccm 最大离子束流密度:15mA/㎝2 工作真空1~2×10-2Pa 出口束径≥Φ80㎜ 中和方式为灯丝中和 离子能量和束流独立连续可调。 2、 辅助离子源(考夫曼平栅离子源) 加速能量100~1000eV 束流0~150mA 气流量:0~10sccmN2O2Ar 出口束径≥Φ120㎜ 均匀区>Φ200㎜,不均匀性±5% 工作真空1~2×10-2Pa 离子能量和束流独立连续可调。 3、真空室极限真空4×10-4Pa (真空度可否提高?) 4、真空室恢复真空3×10-3Pa,时间≤40min

安放地址: 海南大学李运强理工实验室大楼B412

服务内容: 金属薄膜,半导体薄膜和功能薄膜的制备以及器件表面的清洗。

服务的典型成果:

对外开放共享规定: 按相关文件执行

参考收费标准: 根据材料制备要求协商确定



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