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脉冲激光沉积薄膜系统  (收藏)

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设备分类编码: 129900

仪器设备分类: 专用

主要学科领域: [物理学]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 0373-3325561

电子邮箱:

通讯地址:

邮政编码:

联系人: 宋桂林

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>其他>>其他

规格型号: NBM-PLD

所属科研设施:

主要功能: *PLD概念清晰易懂:激光束使靶子表面蒸发,生产出与靶子同样化学组成的膜。 *PLD应用广泛:很多材料在多样的气体环境和很宽的气体压力范围内都可以镀膜。 *PLD节省成本:一束激光能够供多个真空系统使用。 *PLD高效率:在10至15分钟,可生长高质量的样品。 *PLD可升级:当需要大批量生产复合氧化物膜时,Neocera公司将证明PLD作为生产工具的价值。

主要技术指标: 最大wafer直径 8 最大靶材数量 6个1 压力(Torr) <10-8 真空室直径 24 基片加热器 8,旋转 最高样品温度 850

安放地址:

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定:

参考收费标准:



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