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超高真空多功能磁控溅射系统  (收藏)

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设备分类编码: 129900

仪器设备分类: 专用

主要学科领域: [物理学, 材料科学, 机械工程, 能源科学技术]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 0373-3326331

电子邮箱: sgl1972@yahoo.cn

通讯地址:

邮政编码:

联系人: 宋桂林

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>其他>>其他

规格型号: JGP560C

所属科研设施:

主要功能: 主要用于纳米级的单层及多层功能膜-各种硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜、铁磁膜和磁性薄膜等的研究开发。广泛应用于半导体行业、微电子及新材料领域。

主要技术指标: 真空室尺寸:溅射室 Φ500×280 进样室:Φ250×450 极限真空:溅射室 6.6×10-6Pa 进样室: 6.6×10-4Pa 磁控靶靶材尺寸:2×Φ603×Φ504×Φ604×Φ605×Φ60, 4×Φ1006×Φ60, 样品台形式:样品尺寸 Φ30 Φ30 Φ40 Φ40 Φ40,Φ75 Φ40,Φ100 运动方式:直线运动,往复回转,水冷,加热 加热温度:室温~600℃, 数显自动控制 ,可选自动控制功能:镀膜过程采用计算机控制,具有: (1)

安放地址:

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定:

参考收费标准:



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