设备分类编码: 129900

仪器设备分类: 专用

主要学科领域: [物理学, 材料科学, 机械工程, 航空、航天科学技术]

仪器设备来源: 购置

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规格型号: TEER UDP650

所属科研设施:

主要功能: UDP650/ 4(G-iC) 是专门设计用于Graphit-iC涂层的沉积的溅射离子镀系统。Teercoatings 已发展出非常成熟的石墨基为主的类石墨镀层，所有的技术细节也被专利所保护着，G-iC系为一种深灰色、导电率高的一种镀层，具有高硬度、低摩擦系数、耐磨损的性能，属于graphitic microcrystalline的结构特性。 镀膜的性质： ?？一般厚度2.5 μm ?？摩擦系数约为0.05 到 0.09之间 ?？硬度约 1,500 VHN ?？深灰色. 应用方面 ?？机加工. ?？塑料

主要技术指标: 1. 该系统是一个电器控制系统，主要用于真空系统的控制与信号反馈收集与控制等。要求设备配置全面，稳定可靠 2.两个Advanced Energy Pinnacle 6x6 DC Power Units直流电源单元，一个Advanced Energy Pinnacle Plus 5KW偏压电源单元，这些单元有极好的电弧抑制并且能在恒定电流，恒定电压或者恒定功率上操作。 3.等离子体谱控制仪 4.过程控制：该系统完全由计算机系统控制。计算机控制包括一套已确定的涂料类型菜单，自动记录沉积参数，状态显示站场模型图，有序、安全的关闭程序。电脑控制的全真空系统，便于利用过程控制配方擦写器进行顺序更改。这些涂层配方包括一系列喷涂步骤，每一个包括所有参数(如电源设定，气体流量设定，样本旋转和时间)。菜单可以分为多个步骤，包括参数列举如下： 当选定涂料的配方，计算机控制将把它送入所需的基准压强下，然后进行涂层自动排序。 5.历史数据曲线查询：可将过程控制程序中所有的历史数据或以数据方式呈现，或以曲线方式表示，均可随时透过软件做查询，以利工艺对照与设备状态查询。 6.技术工艺：随机附带Teercoatings 成熟标准工艺，Graphit-iC、CrTiAlN、CrN Graphit-iC验收：厚度2.5 μm ± 0.2μm，摩擦系数约为0.05 到 0.09之间，硬度约 1,500 VHN ± 100VHN，深灰色。

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