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高能离子注入及增强沉积系统  (收藏)

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设备分类编码: 120302

仪器设备分类: 专用

主要学科领域: [材料科学]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 0931-4968117

电子邮箱:

通讯地址:

邮政编码:

联系人: 张广安

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>电子工艺实验设备>>半导体集成电路工艺实验设备

规格型号: ZBAD-650

所属科研设施:

主要功能: 各种陶瓷、金属、玻璃、聚合物等表面高能离子注入处理及薄膜沉积

主要技术指标: 高能气体离子源,加速电压10-70kV连续可调,最大束流8mA,最大束斑100mm;     高能金属离子源加速电压10kV—50kV连续可调,最大束流8mA,最大束斑100mm;      低能气体溅射离子源,能量0.5-3.0kV,束流10-100mA可调;     低能清洗气体离子源,能量0.5-1.5kV,束流10-50mA可调;

安放地址:

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定:

参考收费标准:



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