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离子源-多弧-磁控溅射复合镀膜系统  (收藏)

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设备分类编码: 120302

仪器设备分类: 专用

主要学科领域: [材料科学]

仪器设备来源: 研制

联系电话: 0931-4968117

电子邮箱: gazhang@licp.cas.cn

通讯地址:

邮政编码:

联系人: 张广安

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>电子工艺实验设备>>半导体集成电路工艺实验设备

规格型号:

所属科研设施:

主要功能: 可用于各种特殊金属表面、发动机活塞及环齿轮表面的镀膜(金属膜,氮化物,氧化物,以及多层膜等)处理、类金刚石膜(DLC)的制备以及各种表面装饰膜、半导体膜、介子膜等。

主要技术指标: 极限真空:溅射室(经烘烤)真空度极限≤1×10-4Pa,沉积膜层厚度:0.1-100um

安放地址:

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定:

参考收费标准:



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