设备分类编码: 120303

仪器设备分类: 专用

主要学科领域: [物理学, 材料科学, 机械工程, 航空、航天科学技术]

仪器设备来源: 购置

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联系人: 张广安

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>电子工艺实验设备>>电真空器件工艺实验设备

规格型号: UDP650

所属科研设施:

主要功能: UDP650/ 4(G-iC) 是专门设计用于Graphit-iC涂层的沉积的溅射离子镀系统，可制备出非常成熟的石墨基为主的类石墨镀层，所有的技术细节也被专利所保护着，G-iC系为一种深灰色、导电率高的一种镀层，具有高硬度、低摩擦系数、耐磨损的性能，属于graphitic microcrystalline的结构特性。 镀膜的性质： ?？一般厚度2.5 μm ?？摩擦系数约为0.05 到 0.09之间 ?？硬度约 1,500 VHN ?？深灰色. 应用方面 ?？机加工. ?？塑料注塑模 ?？高性能的汽车零

主要技术指标: 1. 真空腔为可水冷双重壁，垂直轴，不锈钢柱形体。顶部和底部均为水冷。腔体前部有可开合的门体。标准配置的真空泵为扩散泵，安放在真空腔体的底部，四个矩形的磁控溅射靶安排在腔体的圆周壁上。 真空腔：材料SUS /304L；直径：700mm (内部)，736mm （外部） ；高度：650mm（内部），694mm （外部） 2. 采用前开门或者上开门结构。带观察窗，配置包含两套可换挡板，可交换使用，减少清理等待时间。 真空腔端口包括: 3个观察窗；5个25NW凸缘端口，4个10NW的凸缘端口。 3. 采用Edwards 2,000 litre/sec Diffstak Oil Diffusion Pump，搭配Edwards E2M40 pump机械泵组合。 4. 真空规：采用Edwards系列搭配MKS Baratron，Active Pirani gauge，wide range gauge，Baratron gauge. 5. 真空性能：工艺室极限真空（base vacuum）：< 5X10-6 torr，从大气抽到5E-5 torr时间少于30分钟，真空室整体漏率￡ 5.0E-5torr*l/s 6. 3路进气(含质量流量计)，其中二路可被OEM控制 7. 四个中强磁控靶座放置在真空腔室壁，直接水冷。四个磁控靶安置位置为专利的封闭场不平衡磁控溅射离子镀系统（CFUBMSIP）。磁控靶宽度（大小）175毫米，磁控靶高度（大小）380毫米 8. 一套三轴转架，两套单轴转架 9. 备 件：提供一个全面的备件清单，包括：一整套O形圈，扩散泵油，机械泵油、真空脂、2个观察玻璃窗、2个25 NW的挡板和2个10 NW的挡板，驱动皮带，光学发射监控光纤。

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