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薄膜分析系统  (收藏)

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设备分类编码: 010199

仪器设备分类: 通用

主要学科领域: [物理学, 化学, 工程与技术科学基础学科, 测绘科学技术, 材料科学, 冶金工程技术, 机械工程, 能源科学技术, 电子与通信技术, 计算机科学技术, 化学工程, 航空、航天科学技术, 环境科学技术及资源科学技术, B08, C14, C20, C26, C41, F00, G00]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 0371-67781107

电子邮箱: lts34@zzu.edu.cn

通讯地址:

邮政编码:

联系人: 李铁生

仪器所属类别: 分析仪器>>电子光学仪器>>其他

规格型号: Vnkd-8000

所属科研设施:

主要功能: 测定多层薄膜和基片的折射率、吸收系数和厚度最精确、最易用的系统。NKD-8000系列产品具有全自动、可同时测定透过光谱和反射光谱,入射光角度从0°到90°连续改变。对分光光谱仪而言,这是一项前所未有的新功能,使得NKD-8000适用于最具挑战性的光学测量。对多层薄膜和基片的n、k和d的测定变得准确、快捷。

主要技术指标: 光谱范围 NKD-8000v280nm—1000nm ( 紫外增强型) ;获得数据时间 2—10分钟,这取决于光谱范围和不同选件;数据分析时间 5秒—5分钟,取决于数据的复杂程度;光谱分辨率1nm或2nm (可选);光源 NKD-8000v150W 氙弧灯 ;样品尺寸10×10mm到200×250mm标准系统,100mm 直径样品的扫描台;层数 至多5层,两个未知参数;薄膜厚度范围5nm到20um,取决于角度、偏振和波长;基片透明、半透明或半吸收或半导体;材料 电介质、高聚物、半导

安放地址:

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定:

参考收费标准:



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