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化学机械抛光机  (收藏)

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设备分类编码: 120302

仪器设备分类: 通用

主要学科领域: [电子与通信技术]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 0592-2187739

电子邮箱: zyb2005@xmu.edu.cn

通讯地址:

邮政编码:

联系人: 曾毅波

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>电子工艺实验设备>>半导体集成电路工艺实验设备

规格型号: POLE400M

所属科研设施:

主要功能: 实现晶片表面的平坦化处理

主要技术指标: 1.二氧化硅抛光后的表面粗糙度:1nm~3nm; 2.硅片抛光后的表面粗糙度:1nm~2nm,WIWNU<3%,WTWNU<5%。

安放地址:

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定:

参考收费标准:



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