点击图片查看原图
磁控溅射低维材料沉积设备  (收藏)

价格: 暂无价格

暂无服务

立即购买   加入购物车   加入预约

推荐
记录

设备分类编码: 120303

仪器设备分类: 通用

主要学科领域: [物理学]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 0592-2189013

电子邮箱: dlpeng@xmu.edu.cn

通讯地址:

邮政编码:

联系人: 罗晴

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>电子工艺实验设备>>电真空器件工艺实验设备

规格型号: 非标

所属科研设施:

主要功能: 制备金属合金膜、多层膜

主要技术指标: 设备由一个溅射室和一个进样室构成,溅射室内有一个三英寸的垂直靶和三个倾斜靶,可以溅镀尺寸不超过10cm的基片; 设备的极限真空度:≤5x10-5 Pa (经烘烤除气后); 系统真空检漏漏率:≤5x10-8 Pa.l/S; 系统从大气开始抽气:溅射室40分钟可达到5x10-4 Pa;

安放地址:

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定:

参考收费标准:



扫描二维码
关注“智创中国”
全球设备一手掌握。

服务支持 400-0660-652 周一至周日9:00-21:00 售后服务/投诉处理