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双室磁控溅射沉积系统  (收藏)

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设备分类编码: 120303

仪器设备分类: 通用

主要学科领域: [材料科学]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 0592-2188822

电子邮箱: jbzhang@xmu.edu.cn

通讯地址:

邮政编码:

联系人: 张锦彬

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>电子工艺实验设备>>电真空器件工艺实验设备

规格型号: JGP560型

所属科研设施:

主要功能: 制备金属合金膜、多层膜

主要技术指标: 溅射室极限真空度:≤8x10-6 Pa (经烘烤除气后); 进样室极限真空度:≤6.67x10-4 Pa (经烘烤除气后) 系统真空检漏漏率:≤6.6x10-8 Pa.l/S; 系统从大气开始抽气:溅射室40分钟可达到6.6x10-4 Pa; 进样室40分钟可达到6.6x10-3 Pa

安放地址:

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定:

参考收费标准:



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