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刻蚀机  (收藏)

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设备分类编码: 120302

仪器设备分类: 通用

主要学科领域: [电子与通信技术]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 0592-2186890

电子邮箱: zyl98@xmu.edu.cn

通讯地址:

邮政编码:

联系人: 张玉龙

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>电子工艺实验设备>>半导体集成电路工艺实验设备

规格型号: AMS200(阿尔卡特)

所属科研设施:

主要功能: 主要用于刻蚀硅体结构,氧化硅薄膜、氮化硅薄膜及碳化硅薄膜等。

主要技术指标: 1.反应室的最高真空度小于5x10-6mbar; 2.压力稳定时间 7s; 3.射频源发生器反射功率10W,功率校准20W; 4.下电极射频发生器反射功率10W,功率校准5W; 5.下电极温度控制底面氦冷却在10mbar压力下氦流量3sccm,温控稳定性1 °C

安放地址:

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定:

参考收费标准:



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