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多晶硅薄膜制备系统(PECVD)  (收藏)

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设备分类编码: 990000

仪器设备分类: 通用

主要学科领域: [物理学, 材料科学, 电子与通信技术, B08, B10, C44]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 0371-67766917

电子邮箱: Chysh2003@zzu.edu.cn

通讯地址:

邮政编码:

联系人: 陈永生

仪器所属类别: 其他仪器>>其他>>其他

规格型号: PECVD

所属科研设施:

主要功能: 用于制备半导体行业生产所须的Si3N4、SiO2、μc-Si:H薄膜等。

主要技术指标: 极限压力(Pa):进样室: 6.7×10-4,沉积室: 6.7×10-5 样品台尺寸(mm):150 × 150 RF 电源:500W(13.56MHz)两套,300W(10-4100MHz)一套 气体供给:8 路,质量流量控制器控制

安放地址:

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定:

参考收费标准:



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