设备分类编码: 120302

仪器设备分类: 专用

主要学科领域: [物理学]

仪器设备来源: 研制

联系电话: 18573100643

电子邮箱: Mzhang.hnu@gmail.com

通讯地址: 湖南省长沙市岳麓区麓山南路2号湖南大学物电院

邮政编码: 410082

联系人: 张明

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>电子工艺实验设备>>半导体集成电路工艺实验设备

规格型号: 研制

所属科研设施:

主要功能: 用于半导体器件的制作，可用于微纳器件的原位曝光，待曝光基底的尺寸可在20 毫米到2 英寸之间自由改变，可实现不规则形状基底的曝光，特别适合于学术研究。

主要技术指标: 主要功能为光刻，设备包括以下五个部分：1. 光学系统（包括照明光源、成像、CCD对准、自动对焦四部分）, 2. 位移平台系统（x、y、z位移平台和转动系统）, 3. 电气系统（包括电源、机械部件）, 4. 控制系统（包括位移平台控制、图像采集处理、自动曝光、图形生成功能）, 5. 隔振系统（由气浮隔振平台、压缩机组成）。光刻机分辨率为0.65微米，套刻精度为0.3微米。

安放地址: 计算机楼一楼

服务内容: 样品加工

服务的典型成果: Nanotechnology, 2015, 26, 405301

对外开放共享规定: 申请方式：网上预约；申请条件：已审核通过的对象；服务时间：提前2周预约

参考收费标准: 1000元/小时