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MOCVD-有机源气相外延薄膜生长设备  (收藏)

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设备分类编码: 120302

仪器设备分类: 专用

主要学科领域: [物理学]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 18573100643

电子邮箱: Mzhang.hnu@gmail.com

通讯地址: 湖南省长沙市岳麓区麓山南路2号湖南大学物电院

邮政编码: 410082

联系人: 张明

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>电子工艺实验设备>>半导体集成电路工艺实验设备

规格型号: DZS-500

所属科研设施:

主要功能: 磁控溅射镀膜;电子束蒸发沉积电极对

主要技术指标: 主要用于纳米级的单层及多层功能膜-各种硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜、铁磁膜和磁性薄膜等的研究开发。可控厚度制备金属氧化物薄膜(小于200 nm),沉积微电极对

安放地址: 湖南省长沙市岳麓区麓山南路2号湖南大学物电院

服务内容: 样品加工

服务的典型成果: Appl. Phys. Lett. 2009, 95, 152114

对外开放共享规定: 申请条件:完成培训,测试合格,已审核通过的对象;服务时间:提前2周预约

参考收费标准: 1000元/小时



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